PHỤ KIỆN

Thiết bị lấy mẫu tự động được lập trình truy cập ngẫu nhiên và lên tới 360 mẫu. Có thể lựa chọn nhiều loại kệ khác nhau hoặc sử dụng kệ và khay của người sử dụng.

Phân tích UV xa của các nguyên tố halogen có thể mở rộng tới 120nm hoặc sử dụng bước sóng biến đổi.

Giúp thu toàn bộ dữ liệu phổ nhanh đối với bất kỳ máy ICP - OES nào của HORIBA Scientific. Việc phân tích bán định lượng đối với tất cả các nguyên tố không cần hiệu chuẩn, phân tích thông tin hồi cứu và tự động nhận diện các nguyên tố mới.

Sinh khí Ni tơ sẽ giúp làm sạch máy quang phổ ICP-OES. Việc làm sạch này sẽ giúp cải thiện độ nhạy cho bước sóng dưới 190nm và kéo dài tuổi thọ của các bộ phận quang học.

Đây là thiết bị an toàn, thân thiện với môi trường và kiểm soát sự làm mát của cuộn đuốc và máy phát RF. 

Giúp cải thiện độ nhạy của thiết bị tới cường độ có thể bằng USN

Giúp giảm thiểu tình trạng tắc nghẽn của ống phun và sự lắng đọng mẫu trong ống phun bằng cách làm bão hòa dòng Argon trong ống phun bằng nước. 

Máy tạo hydrua cho thiết bị phân tích đồng thời các kim loại (CMA) giúp phân tích tự động các nguyên tố hydrua và không có hydrua mà không cần phải chuẩn bị mẫu. Giới hạn phát hiện được cải thiện lên tới 10 to 20 lần đối với các nguyên tố hydrua và 50 lần đối với Hg.

Thêm một thiết bị quang học với hệ thống của HORIBA sẽ tạo ra một hệ thống ICP OES có hiệu suất cao.