PLASMA PROFILING TOFMS™
  • Phân tích trực tiếp và nhanh: không cần buồng chân không cao và bước chuẩn bị sơ bộ.
  • Phù hợp với mọi dạng vật liệu và chất phủ.
  • Phân tích trên toàn dải khối phổ: từ nguyên tố H đến U và thông tin phân tử, bao gồm theo dõi đồng vị.
  • Dữ liệu 3D độc đáo
  • Độ phân giải sâu cao: khả năng phân tích lớp mỏng 1nm
  • Chiều dầy phân tích: đến 100μm
  • Phân tích bán định lượng: hiệu ứng ma trận do quá trình phún xạ và ion hóa tách biệt.

 

Vui lòng click vào đây để có thêm thông tin về sản phẩm

Nhà sản xuất: HORIBA Scientific

  • Tốc độ xử lý: 33kHz trên dải nguyên tố đến U (thu 1 phổ đầy đủ là 30μs)
  • Phân giải khối phổ: 3500 tại m/s 208, 5000 tại m/z 208
  • Dải động học: 107
  • Độ chính xác khối (m/z sai số/ m/z thực): 40 ppm
  • Độ nhạy: 103 cps/ppm
  • Độ phân giải chiều sâu: cỡ nm
  • Khả năng tẩy trống linh hoạt với mode ion âm và dương: đến 4 ions
  • Đưa mẫu theo chiều ngang, đơn giản và dễ dàng
ellip

CÔNG TY TNHH HORIBA VIỆT NAM

Địa chỉ: P.6, Tầng 10, CMC Tower, Phố Duy Tân, Phường Dịch Vọng Hậu, Quận Cầu Giấy, TP Hà Nội

Tel/Fax: 024 37958552/53

Email: support.vn@horiba.com