HORIBA Scientific tổ chức ngày GD (Phóng điện phát quang) vào Chủ Nhật, ngày 29/9 tại SCIX 2013,do FACSS, Milwaukee.
Vào lúc 9h sáng, 9:00, HORIBA Scientific tổ chức buổi hội thảo với chủ đề “Phân tích chiều sâu của màng mỏng/dày sử dụng quang phổ phát xạ quang học phóng điện phát quang RF xung và TOF-MS.” Hội thảo lần này giới thiệu công nghệ GD và nhấn mạnh vào những tiến bộ mới nhất trong lĩnh vực phân tích bề mặt và chiều sâu bằng máy quang phổ phóng điện phát quang, đồng thời tập trung vào các ứng dụng khác nhau.
Hội thảo có bài phát biểu của khách mời, là những người đi đầu trong việc áp dụng công nghệ mới, từ các công ty trên thế giới. Đồng thời có các cuộc thảo luận từ các nhà khoa học trong lĩnh vực pin Ion Lithium, kim loại và chất chống ăn mòn và các ngành công nghiệp quang điện.
Chúng tôi hy vọng các bạn sẽ tham gia hội thảo này. Xin mời truy cập vào đây để đăng ký.
