UVISEL Plus

Ưu điểm của thiết bị

  • Độ chính xác và độ nhạy cao
  • Thiết kế hiện đại
  • Dải phổ lớn: 190-2100 nm
  • Gói phần mềm hoàn toàn tích hợp để đo, dựng hình và vận hành tự động

Dữ liệu thu được

  • Chiều dày màng mỏng từ 1Å tới 50 µm
  • Độ nhám bề mặt và giao diện
  • Các hằng số quang học (n,k) của các màng đẳng hướng, dị hướng và phân cấp
  • Các dữ liệu quang học dẫn xuất như: hằng số hấp thụ α, vùng cấm quang họcEg
  • Các tính chất vật liệu: thành phần hợp kim, độ xốp, độ kết tinh, hình thái học...
  • Nền Mueller
  • Sự phân cực

Nhà sản xuất: HORIBA Scientific

Thiết bị phân tích phổ phân cực ellip UVISEL Plus có sẵn 2 cấu hình

                 190nm UVISEL Plus mở rộng dải phổ tới 2100 nm

190 nm UVISEL Plus 920 nm


Thông số kỹ thuật

  • Dải phổ: từ 190 tới 920 nm │Tùy chọn mở rộng NIR tới 2100 nm
  • Phát hiện: Máy đơn sắc độ phân giải cao kết hợp với các detector độ nhạy lớn

Cấu hình thủ công

  • Kích thước điểm: 0.05 – 0.1 – 1 mm (pinhole)
  • Bệ mẫu: 150 mm, chiều cao (20mm) và độ nghiêng điều chỉnh thủ công
  • Máy đo góc: Góc điều chỉnh thủ công từ 55° tới 90° với các bước 5°

Cấu hình tự động

  • Kích thước điểm điều chỉnh thủ công hoặc tự động: 0.05 - 0.1 - 1 mm hoặc 0.08 - 0.12 - 0.25 - 1.2 mm (pinhole)
  • Bệ mẫu tự động: bệ mẫu XY kích thước 200x200mm, 300x300 mm XY, điều chỉnh thủ công chiều cao (4mm) và độ nghiêng , bệ mẫu XYZ, bệ mẫu theta
  • Máy đo góc: Điều chỉnh góc tự động từ 40° tới 90° bằng các bước 0.01°

Máy đo góc tích hợp

  • Góc tới điều chỉnh thủ công: 35° tới 90° bằng bước 5°
  • Giá giữ mẫu: điều khiển chiều cao trục Z thủ công 150mm, 20mm
  • Hệ thống chuẩn trực tự động để căn chỉnh mẫu chọn thêm
  • Kích thước: R: 25cm; C: 35cm; S: 21 cm

Cấu hình In-situ

Tùy chọn

  • Phụ kiện: cell điều khiển nhiệt độ, cell chứa mẫu lỏng, cell điện hóa, module  liquid cell, electrochemical cell, module chiết suất để đo hệ số phản xạ tại góc tới 0° incidence...
  • Quan sát: CCD camera
  • Vui lòng click vào đây để có thêm thông tin

Hiệu suất

  • Độ chính xác: Ψ= 45°±0.01° và Δ=0°±0.01° đo được trong cấu hình truyền thẳng trong không khí1.5 – 5.3 eV
  • Độ lặp lại: NIST 1000Å SiO2/Si (190-2100 nm): d ± 0.1 % – n(632.8nm) ± 0.0001

Tags: chiều dày màng mỏng, phân cực ellip

ellip

CÔNG TY TNHH HORIBA VIỆT NAM

Địa chỉ: P.6, Tầng 10, CMC Tower, Phố Duy Tân, Phường Dịch Vọng Hậu, Quận Cầu Giấy, TP Hà Nội

Tel/Fax: 024 37958552/53

Email: support.vn@horiba.com