HuynhquangRaman bannerICPSPRiphantichhatXRF banner

ICP-OES là công nghệ phân tích được sử dụng cho việc phát hiện vết nguyên tố. Mẫu được chuyển hóa thành dạng sương mù và chuyển tới plasma Argon. Sau đó bị phân hủy, nguyên tử và ion hóa và bị kích thích. Cường độ ánh sáng phát ra khi nguyên tử hoặc ion trở về trạng thái năng lượng thấp hơn được ghi nhận. Mỗi nguyên tử phát ra tại bước sóng đặc trưng và các vạch đặc trưng này được sử dụng để phân tích định lượng và định tính.

 

Chủ yếu được sử dụng trong các ngành công nghiệp cho phân tích định lượng và định tính các nguyên tố:

  • Kim loại (thép, kim loại đen và kim loại mầu)
  • Sinh học, y tế, thực phẩm
  • Môi trường (nước máy, nước môi trường, đất, bụi không khí)
  • Khoáng sản địa chất (nguyên tố đất hiếm…)
  • Hóa học, thuốc, dầu khí, nhựa, gốm....

 

Thiết bị quang phổ phát xạ plasma (ICP - OES) Ultima Expert được thiết kế đặc biệt cho các ứng dụng phức tạp nhất, có hiệu suất cao nhất trên thị trường với độ phân giải vượt trội, độ nhạy cao và độ ổn định cực tốt.

Thiết bị quang phổ phát xạ plasma (ICP-OES) Ultima Expert LT mang lại hiệu suất cao với chi phí hợp lý cho các mẫu phức tạp.

Tất cả các thông tin về thiết bị ICP-OES mới hoặc được nâng cấp sẽ hiển thị trên màn hình.

HORIBA Scientific nhận đơn đặt hàng theo yêu cầu của khách hàng cho phù hợp với phòng thí nghiệm.

Phụ kiện phổ kế ICP-OES - Hoàn thiện máy quang phổ ICP-OES để đáp ứng các yêu cầu cụ thể.

sample
Instruments upgrade

CÔNG TY TNHH HORIBA VIỆT NAM

Địa chỉ: P.6, Tầng 10, CMC Tower, Phố Duy Tân, Phường Dịch Vọng Hậu, Quận Cầu Giấy, TP Hà Nội

Tel/Fax: 04 37958552/53

Email: support.vn@horiba.com