UVISEL

Ưu điểm của thiết bị:

  • Độ chính xác, độ nhạy và độ phân giải cao
  • Dải phổ rộng: 190-2100 nm
  • Thiết kế dạng mô đun
  • Bộ phần mềm hoàn toàn tích hợp

Thiết bị cung cấp những thông tin sau:

  • Độ dày màng từ 1Å tới >45µm*
  • Các hằng số quang học (n,k) cho màng đẳng hưởng, màng phân cấp
  • Độ nhám bề mặt và giao diện
  • Các tính chất quang học như hằng số hấp thụ α và vùng cấm quang học Eg
  • Các tính chất của vật liệu: thành phần hợp kim, độ xốp, độ tinh thể, tính hình thái và nhất quán.
  • Mueller matrix
  • Sự khử cực

*Tùy thuộc vào sự hấp thụ vật liệu

 

Vui lòng click vào đây để có thêm thông tin về sản phẩm

Nhà sản xuất: HORIBA Scientific

Thiết bị phân tích phân cực Ellip UVISEL có 4 cấu hình sau:

                 190nm UVISEL Extended Range 2100 nm

245 nm UVISEL NIR 2100 nm

210 nm UVISEL VIS 880 nm

190 nm UVISEL FUV 880 nm

        


Thông số kỹ thuật:

  • Dải phổ: 190-880 nm │ 210-880 nm │245-2100 nm │ 190-2100 nm
  • Hệ phát hiện: Máy đơn sắc độ phân giải cao kết hợp với detector có độ nhạy cao hoặc hệ thống đa bước sóng 32/64 để thu thập dữ liệu nhanh.

Cấu hình bằng tay:

  • Kích thước điểm: 0.08 – 0.1 – 1 mm (lỗ ngắm); 50µm FWHM theo yêu cầu
  • Bệ mẫu: 150 mm, độ cao điều khiển bằng tay (4mm) và điều chỉnh độ nghiêng
  • Giác kế: góc điều chỉnh bằng tay từ 55° tới 90° bằng bước 5°

Cấu hình tự động:

  • Kích thước điểm điều chỉnh bằng tay hoặc tự động: 0.08 - 0.1 - 1 mm hoặc 0.08 - 0.12 - 0.25 - 1.2 mm (lỗ ngắm)
  • Bệ mẫu tự động:Bệ mẫu XY 200x200mm, 300x300 mm, độ nghiêng và độ cao điều chỉnh bằng tay (4mm) , bệ mẫu XYZ, bệ theta
  • Giác kế tự động: góc tự động điều chỉnh từ 40° tới 90° bằng bước 0.01°

Giác kế tích hợp:

  • Góc tới điều chỉnh bằng tay: 35° tới 90° bằng bước 5°
  • Gá mẫu: điều chỉnh độ cao trục z bằng tay 150mm, 20mm
  • Hệ thống chuẩn trực tự động để định tuyến mẫu (chọn thêm)
  • Kích thước: Rộng: 25cm; Cao: 35cm; Sâu: 21 cm

Cấu hình tại chỗ

  • Sự thích ứng về mặt cơ học: mép bích CF35 hoặc KF40
  • Dễ dàng chuyển đổi giữa cấu hình in-situ và ex-situ
  • Xem thêm thông tin

Tùy chọn

  • Phụ kiện: cell kiểm soát nhiệt độ, cell đựng chất lỏng, cell điện hóa, module phản xạ để đo phản xạ tại góc tới 0°
  • Phản xạ kế quang phổ: 450-850nm, kích thước điểm 10µm
  • Quan sát: CCD camera
  • Xem thêm thông tin

Hiệu suất:

  • Độ chính xác: Ψ= 45°±0.02° và Δ=0°±0.02° được đo trong cấu hình không khí truyền thẳng 1.5 – 5 eV
  • Độ lặp lại: NIST 1000Å SiO2/Si (190-2100 nm): d ± 0.1 % – n(632.8nm) ± 0.0001

Tags: phân tích phân cực ellip, ellipsometer, màng mỏng, thin film

ellip

CÔNG TY TNHH HORIBA VIỆT NAM

Địa chỉ: P.6, Tầng 10, CMC Tower, Phố Duy Tân, Phường Dịch Vọng Hậu, Quận Cầu Giấy, TP Hà Nội

Tel/Fax: 024 37958552/53

Email: support.vn@horiba.com