HORIBA Scientific (HORIBA), nhà sản xuất thiết bị ICP hàng đầu thế giới tự hào cho ra mắt sản phẩm mới tại Pittcon – Máy quang phổ ICP – OES ULTIMA Expert. Dễ dàng sử dụng, thiết kế plasma độc đáo, công cụ thông minh, độ phân giải cao nhất, giới hạn phát hiện thấp nhất trên toàn dải bước sóng đáp ứng yêu cầu của những ứng dụng phức tạp nhất.
ULTIMA Expert được thiết kế với ngọn lửa plasma độc đáo mang lại chế độ quan sát hướng tâm tốt hơn rất nhiều so với các hệ thống khác nhờ vào việc đo lường tại toàn bộ khu vực phân tích, lý tưởng với những ma trận khó, vận hành ổn định và giảm thiểu việc bảo trì.
Độ phân giải cao và độ nhạy tuyệt vời cho phép đo chính xác các nguyên tố có nồng độ cao, thấp và dạng vết. ULTIMA Expert cho độ phân giải cao <5picometer đối với dải UV và <10 picometẻ đối với dải khả kiến, nhờ thiết kế quang học độc đáo, tích hợp cách tử holographi và bộ phận quang học có tiêu cự 1m. Bộ phận quang học ổn định về nhiệt đảm bảo sự ổn định lâu dài cho phép đo. Dải bước sóng từ 120 tới 800nm đáp ứng tất cả các yêu cầu về phân tích nguyên tố, bao gồm khả năng UV xa để phân tích halogen.
Phần mềm hiệu quả với các công cụ thông minh độc đáo, có hướng dẫn sử dụng từ khâu lấy mẫu đến khi ra kết quả. Phần mềm hình ảnh Navigator giúp phân tích định tính và bán định lượng các mẫu chưa biết dựa trên toàn bộ dải phổ thu được, phần mềm cơ bản S3 và MASTER để phát triển phương pháp đơn giản hóa và một công cụ tính toán thay đổi cho việc cải thiện chất lượng hiệu chuẩn.
Dr. Matthieu Chausseau, Giám đốc sản phẩm ICP của HORIBA Scientific nói: "ULTIMA Expert là thiết bị lý tưởng cho các ứng dụng như khai thác mỏ, sản xuất muối, phân tích ăn mòn kim loại trong dầu, hóa dầu, luyện kim và sản xuất hóa chất. Nhờ sự vận hành ổn định và các công cụ thông minh mà ULTIMA Expert cho ra các kết quả chính xác nhanh và đơn giản hơn bất kỳ thiết bị ICP - OES nào khác trên thị trường."
ULTIMA Expert cung cấp kèm theo các phụ kiện cho ứng dụng khác nhau nhằm tăng cường tính tự động hóa và chức năng của thiết bị.
