Video Giới thiệu HoribaScientificPEAutomotiveSemiconductor

CÔNG TY TNHH HORIBA VIỆT NAM

Địa chỉ: Lô 3 và 4, tầng 16, tòa nhà DETECH Tower II, số 107 Nguyễn Phong Sắc, P. Dịch Vọng Hậu, Q. Cầu Giấy, TP Hà Nội

Tel/Fax: 024 37958552/53

Email: info-sci.vn@horiba.com

ICP-OES là công nghệ phân tích được sử dụng cho việc phát hiện vết nguyên tố. Mẫu được chuyển hóa thành dạng sương mù và chuyển tới plasma Argon. Sau đó bị phân hủy, nguyên tử và ion hóa và bị kích thích. Cường độ ánh sáng phát ra khi nguyên tử hoặc ion trở về trạng thái năng lượng thấp hơn được ghi nhận. Mỗi nguyên tử phát ra tại bước sóng đặc trưng và các vạch đặc trưng này được sử dụng để phân tích định lượng và định tính.

 

Chủ yếu được sử dụng trong các ngành công nghiệp cho phân tích định lượng và định tính các nguyên tố:

  • Kim loại (thép, kim loại đen và kim loại mầu)
  • Sinh học, y tế, thực phẩm
  • Môi trường (nước máy, nước môi trường, đất, bụi không khí)
  • Khoáng sản địa chất (nguyên tố đất hiếm…)
  • Hóa học, thuốc, dầu khí, nhựa, gốm....

 

UTIMA EXPERT
UTIMA EXPERT
Thiết bị quang phổ phát xạ plasma (ICP - OES) Ultima Expert được thiết kế đặc biệt cho các ứng dụng phức tạp nhất, có hiệu suất cao nhất trên thị trường với độ phân giải vượt trội, độ nhạy cao và độ ổn định cực tốt.
ULTIMA EXPERT LT
ULTIMA EXPERT LT
Thiết bị quang phổ phát xạ plasma (ICP-OES) Ultima Expert LT mang lại hiệu suất cao với chi phí hợp lý cho các mẫu phức tạp.
Quang phổ phát xạ Plasma ICP-OES theo yêu cầu
Quang phổ phát xạ Plasma ICP-OES theo yêu cầu
HORIBA Scientific nhận đơn đặt hàng theo yêu cầu của khách hàng cho phù hợp với phòng thí nghiệm.
Phần mềm ICP NEO
Phần mềm ICP NEO
Tất cả các thông tin về thiết bị ICP-OES mới hoặc được nâng cấp sẽ hiển thị trên màn hình.
PHỤ KIỆN
PHỤ KIỆN
Phụ kiện phổ kế ICP-OES - Hoàn thiện máy quang phổ ICP-OES để đáp ứng các yêu cầu cụ thể.