Scientific1
Scientific 2
Scientific3
PHỔ PHÂN CỰC ELLIP
PHỔ PHÂN CỰC ELLIP

Phân tích phân cực Ellip là phương pháp quang học không phá hủy và không tiếp xúc dựa trên sự thay đổi về trạng thái phân cực ánh sáng khi phản chiếu gián tiếp vào mẫu màng mỏng. Phân tích phân cực ellip sử dụng phương pháp tiếp cận dựa trên mô hình để xác định độ dày màng, tính chất quang học...

 

Thông tin thu được từ phân tích phân cực ellip:

  • Độ dày màng từ vài Angstroms tới 10 micromet
  • Hằng số quang học (n,k)
  • Tính chất vật liệu: thành phần hợp kim hợp chất, độ xốp, tinh thể, bất đẳng hướng, vùng cấm quang học
MÁY QUANG PHỔ GD-OES
MÁY QUANG PHỔ GD-OES

GD-OES kết hợp phóng điện phát quang từ nguồn tần số vô tuyến (RF) với máy quang phổ phát xạ. Các nguyên tử bề mặt của mẫu được phún xạ và ăn mòn bởi các ion Ar, từng lớp một. Các nguyên tử thoát ra được bị kích thích bởi các va chạm trong plasma và phát ra ánh sáng. Ánh sáng phát xạ này sẽ được phát hiện bởi HDD thông qua máy đa sắc (HDD: Đầu đo dải động học cao).

 

GD-OES là công cụ lý tưởng cho phân tích màng mỏng, chất bán dẫn, quá trình xử lý bề mặt, nghiên cứu oxy hóa - ăn mòn, mạ PVD/CVD, hợp kim-kim loại, thép mạ, sành sứ - thủy tinh...

 

 

PLASMA PROFILING - TOFMS
PLASMA PROFILING - TOFMS

PP-TOFMS kết nối giữa nguồn GD plasma với Khối phổ thời gian bay cực nhanh, cung cấp khả năng phân tích hóa chất của vật liệu rắn cùng với chức năng phân tích chiều sâu với tốc độ cao, độ phân giải cao và độ nhạy cao.

 

Các ứng dụng chính:

  • Khảo sát chiều sâu chất phụ gia
  • Định danh chất ô nhiễm bề mặt, khối
  • Công nghệ và khoa học chất ăn mòn
  • Đặc tính cấu trúc Nano

 

HUỲNH QUANG ĐIỆN TỬ
HUỲNH QUANG ĐIỆN TỬ

Huỳnh quang điện tử (CL): photons (ánh sáng) phát ra từ mẫu huỳnh quang do tác động của chùm tia điện tử. CL được thu nhận nhờ giao diện quang học và quang phổ được phân tích cung cấp thông tin chi tiết về tính chất vật lý của mẫu tới cấp nanometer.