CÁC THIẾT BỊ ĐO TẠI CHỖ, ĐO NỐI TIẾP VÀ ĐO DIỆN TÍCH RỘNG
Các thiết bị phân tích phân cực tại chỗ cho phép kiểm soát thời gian thực sự kết tụ màng mỏng và các quá trình khắc ăn mòn với độ phân giải bán lớp đơn. Thiết bị cung cấp tính toán thời gian thực của độ dày màng, các hằng số quang học và thành phần của các phiến màng trong điều kiện môi trường khác nhau.
Các thiết bị phân tích phân cực ellip trên diện rộng của HORIBA Scientific được thiết kế để cung cấp các giải pháp kiểm soát màng mỏng trong màn hình phẳng và quang điện.
Vui lòng click vào đây để có thêm thông tin về sản phẩm
Nhà sản xuất: HORIBA Scientific
Các thiết bị phân tích phân cực Ellip liên tục:
Phân tích liên tiếp độ dày màng và các hằng số quang học (n,k):
- Vật liệu nền: PET, PEN, PI, PC, PA, TAC…
- Vật liệu màng mỏng:
- Màng kim loại mỏng: Ag, Al, Cr, Cu
- Điện cực trong suốt: ITO, AZO, i:ZnO
- Polymers, màng LED hữu cơ
- Các chất điện môi: Al2O3, SiN, SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5…
Các thiết bị phân tích phân cực Ellip tại chỗ:
- Dải phổ: 210-880 nm - 190-880 nm - 245-2100 nm - 190-2100 nm
- Nguồn sáng: Đèn Xenon 75W hoặc 150W
- Thời gian thu dữ liệu: 50ms/ xác định
- Phát hiện: thu phổ đơn điểm hoặc thời gian thực nhờ detector dải động học, độ nhạy cao hoặc máy đơn sắc quét để đo tại chỗ trong điều kiện môi trường làm việc dành cho kết tụ màng mỏng/kiểm soát quá trình khắc ăn mòn.
- Kích thước điểm: 1 x 3 mm
Hệ thống lập bản đồ lớn co phép đo màng mỏng tại mọi vị trí trên panel. Các thiết bị phân tích phân cực Ellip diện rộng được điều khiển bởi phần mềm DeltaPsi2, cugn cấp các công thức đáng tin cậy cho việc phân tích màng mỏng thông thường. Tự động đo + dựng mẫu + lập bản đồ + kết quả. Tự động báo cáo, tái xử lý dữ liệu, xuất/nhập là một số chức năng của DeltaPsi2.